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Plasma Etch MK-II
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工業型電漿清洗機
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6, 8, 12, 16 and 24 水平的可用現成系統。
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每個架子都是 24” X 18” 大小和 1.5” 間距。
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過程中溫度控制在 1250℉ 至 3000℉ 之間來排除預熱週期。
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觸控操作的微處理器控制系統。
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